科技日報記者 張佳欣
加拿大渥太華大學領銜的一個國際研究團隊在超薄磁體的研發上取得突破。他們展示了一種全新的材料組合，可增強僅有幾層原子厚度的材料中的磁性，這使超薄磁體向現實應用邁出了關鍵一步。相關成果發表在最新一期《物理進展報告》期刊上。
傳統磁體體積龐大，難以在尖端電子產品中實現小型化。而超薄磁體僅有幾層原子厚度，是實現更小、更強大設備的理想材料。然而，這類磁體普遍存在一個致命缺陷，即它們通常只能在極低溫度下工作，不適用于日常應用。
為了解決這一問題，研究團隊將超薄磁體與拓撲絕緣體材料結合使用。當這兩種材料疊加在一起時，磁強度顯著提升，在較高溫度下也可保持穩定。研究人員表示，這就像給磁體加了個“助推器”，通過與合適的材料配對，能在不破壞磁體的情況下增強其性能，這可能會徹底改變未來電子設備的構造方式。
這一研究為設計更強、更穩定的納米尺度磁體提供了新路徑。下一步，研究團隊將嘗試不同的材料組合，力爭實現磁體在室溫下運行這一關鍵目標，推動其在計算機、數據存儲及量子計算等前沿技術中的廣泛應用。
